本文章主要给大家讲说新型光刻技术出现，佳能挑战ASML，和佳能 最新相机技术的题，希望对各位有所帮助。
来源参考新闻网
参考消息网20日报道日本《朝日新闻》19日报道称，日本佳能历经10多年研发的可用于半导体制造的新技术产品“——”已正式发布。销售。日本厂商一度垄断曝光机市场，但后来被荷兰ASML击败。上述新设备能否动摇ASML的霸主地位，备受关注。
佳能18日在横滨举办技术展览会，展示其新型“纳米压印”曝光设备。这是在半导体晶圆上绘制精密电路的装置。
2月25日横滨展会上悬挂着佳能标志。
这项新技术使用佳能擅长的喷墨打印机和相机技术，将极少量的树脂滴到半导体晶圆上，就像打印机滴墨水一样。与冲压原理类似，将刻有凹凸电路图案的掩模冲压到晶圆上，形成电路。众所周知，在此过程中，晶圆和掩模的位置相差不到几纳米。
目前主流的光刻设备采用的是通过照射强光在晶圆上刻蚀电路的方法。为了使强光变得更细，需要许多透镜和反光板，而且光线必须经过多次照射。这种方法不仅制造成本高，而且消耗大量电力，环境负荷也是一个题。
“纳米压印”设备不使用强光，功耗仅为光刻设备的十分之一，并且可以一次压印电路，使得制造成本非常低。该设备本身也比其他公司价值数百亿日元的设备便宜。
半导体电路线宽越细，性能越高。高性能智能手机和人工智能尖端产品的线宽细至2纳米。“纳米压印”方法可以生产线宽高达5纳米的产品，甚至可以挑战最先进的2纳米产品。
直到20到30年前，曝光设备市场几乎被佳能和尼康垄断。但在后续技术发展上落后于ASML，目前ASML的市场份额超过90%。
“纳米压印”是佳能为了与ASML竞争而开发了10年技术的设备。佳能董事长御手洗富士夫表示，他将扭转这一局面，他说“我想成为一个规则的改变者。”
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